华为5G技术领先后，美国就开始修改规则，尤其是在芯片方面。
据悉，美国先是禁止高通等美芯片企业自由出货，随后又限制使用美技术的芯片企业自由出货，在美多次修改规则后，台积电、联发科等一众芯片企业均不能自由出货。
于是，国内厂商开始加速发展芯片制造技术，同时，政策也在多个方面给予支持，将集成电路成为独立许可，成立集成电路学院以及降低税收，等等。
但是，要想生产制造芯片，必须要用到光刻机，在美修改规则后，国产光刻机的消息更是一个接一个。
例如，消息称，上海微电子将会在2021年下线全新一代光刻机，其曝光精度直接从90nm进步到28nm，能够用于生产制造28nm等制程芯片。
在多次曝光工艺下，其还能够用于生产制造7nm制程的芯片。另外，张召忠更是暗示国内实际上已经有了全新一代国产光刻机。
除了上海微电子的光刻机消息外，中科院、清华大学、华为等也传来关于光刻机的消息。
据悉，中科院已经将光刻机作为主要攻克的技术难题，并将会与国内供应链展开合作，尽早实现先进光刻机的技术突破。
而清华大学在光源方面取得了巨大进展，因为清华大学团队发布了以“稳态微聚束原理的实验演示”的研究论文。
在这篇论文中详细介绍了一种新型粒子加速光源“稳态微聚束”的首个原理实验，而这项光源技术是可以用于生产先进光刻机，毕竟，光刻机最主要的技术就是光源技术。
还有就是，华为也开始招聘半导体设备人才，有消息称，华为已经开始与国内的上海微电子等企业合作，加速突破光刻机技术，然后建设纯国产的芯片生产线。
可以说，国产光刻机不断传来消息，这就说明国内厂商以及研发机构在齐心协力突破光刻机相关技术。
国产光刻机的消息不断，尤其是新一代国产光刻机即将下线，并在未来1-2年内就能够建成纯国产的28nm芯片生产线。
在这样的情况下，不少媒体都在问，ASML还能坐得住么？
其实，答案很简单，ASML已经坐不住了，否则其也不会三番五次的表态，还大量向国内厂商出售和交付光刻机。
例如，在态度方面，ASML急于全面进入中国市场。
美国在2020年最后一次修改规则后，仅仅过去4个月，ASML就方面明确表示，将加速向中国市场布局，向中国厂商提供其能够提供的一切技术。
不仅如此，ASML还表示，向国内厂商出售DUV光刻机，在一般情况下是不需要许可的。
进入2021年后，ASML仍旧接连表态，首次表态，其表示限制ASML等芯片企业自由出货，这对于美国没有任何好处，还将给美系技术企业带来严重的损失。
再次表态时，ASML明确表示，如果一直被限制自由出货，15年之后，ASML或将彻底退出中国市场，当然，也包含其它美国芯片企业。
仅从ASML的表态和警告就能够看出来，ASML是坐不住了，其不愿意看到偌大的中国市场白白流走。
其次，ASML加速向国内厂商销售光刻机。
进入2021年后，ASML就加速向国内厂商出售、交付光刻机。
其中，ASML与中芯国际签订了12亿美元的光刻机技术出售协议等，并在今年第一季度，向国内厂商交付了11台光刻机。
最主要的是，有消息称，ASML一直都在争取，以尽快向国内厂商交付其已经订购的EUV光刻机。
从这一点来看，ASML是坐不住的，其大量向国内厂商出售、交付光刻机，就是最好的证据。
对于现在的ASML，你们怎么看，欢迎留言、讨论。
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