国产设备迎来逆袭,中企新订购的4台新设备,均来自于上海微电子!
光刻机是制造芯片的核心设备,能够制造的厂商现阶段有不少,但能够满足市场芯片制造需求的,却只有ASML一家企业,特别是用于14nm以下工艺的EUV光刻机,ASML则完全垄断了全球市场。
在相关限制的困扰下,国内加速了对于光刻机的研发,除了中科院突破了不少技术之外,还有一些优秀的中企,已经成功掌握了相应的组装工艺,而上海微电子就是一个突出的代表。
上海微电子已经能够完成90nm工艺的光刻机组装,在国内的成熟芯片市场,占据了大部分的市场份额,同样在先进光刻机的研发上,也实现了实质性的突破。
毕竟EUV光刻机的制造,需要用到超10万个零部件,分别来源于超过20多个国家的技术供应,这些技术都是他们最顶尖的,想要获取肯定有一定的交换条件,因此想要实现EUV光刻机的制造并不简单。
近日上海的积塔半导体正在积极采购半导体设备,后续将会在特色工艺生产线上持续发力,用于模拟电路、功率器件等等芯片上的生产。
在其公布的中标信息当中,有一项数据格外的显眼,在光刻机方面的需求,都被ASML给拿走了,本身这是相对正常的事情,但经过事件进行分析之后,我们发现国内的上海微电子也具备订购设备的制造能力。
此次上海积塔订购的是ArF、KrF、i-line系列光源光刻机,并非是DUV光刻机,而这些设备上海微电子很早之前就完成了突破,都在呼吁要支持国产设备的发展,为何这一次却要反其道而行呢?
经过专业人士进行分析之后,也得出了相对应的答案,目前上海微电子的ArF光刻机精度仅为90nm,但是和ASML更先进的工艺,在价格上却相差不是很大,但在成品率、相关性能的表现上,却有着很大的差距。
目前最新的消息已经传出了,看来我们是误会了,虽然没有选择上海微电子的光刻机,积塔半导体却把工艺检测设备的需求,全部留给了上海微电子,总订购数量达到了4台。
这也是唯一一家中标的工艺检测设备厂商,在有了ASML的订单掺杂之后,也很好的证明了,这是依靠上海微电子自身的实力所获取的订单,这对国产供应链来说是具备有重大意义的。
而这工艺检测设备,主要是用于最终的封装测试阶段,目的是为了更好地控制残次品,从而提升芯片制造过程中的良品率,虽然此类设备研发起来并不费劲,但却也是芯片制造过程中缺一不可的设备。
为了提升良品率,ASML多年以来做足了努力,不仅在光刻设备上拥有着顶尖的技术,同样在检测设备上,也拥有着最顶尖的技术,然而这一次积塔半导体,却顶着这方面的压力选择了上海微电子的设备。
这对于国产设备的发展来说,或将成为一个全新的转折点,在公平的市场竞争环境当中取胜,足以见得上海微电子在该领域内的实力,这也会促成让更多的中企,去选择国产设备,这是一个“信任”的开始。
上海微电子的技术实力毋庸置疑,但最终要想证明自己,还是要在先进光刻机上发力,毕竟是一项很多设备厂商都拥有的技术,还不足以建立起足够的竞争优势,如果能够实现对于先进光刻机的突破,地位才算真正的建立起来了。
而上海微电子也还算争气,在很早之前就传出了28nmDUV光刻机的消息,可以提供给10nm及以上芯片制造,在相应的性能表现上甚至不输于ASML的DUV光刻机,同样采用的也是极紫外光源。
但在相关限制到来之后,这样的计划似乎也被放缓了,至今都没有传出要出货光刻机的消息,很可能就是是在授权美技术上被卡住了,但随着国内的核心技术不断突破,相信很快就能够实现光源技术等等的国产化。
因此距离光刻机真正的国产化已经不远了,如果能够完成对于10nm工艺的芯片制造,基本上能够满足国内超过90%以上的需求了,届时在利用了类似于“芯片堆叠”等等特殊工艺,相信是能够实现不亚于5nm芯片的性能表现的。
尽自己所能去支持国产设备,才是最正确的选择,企业本身就是为了利益而存在的,让他们牺牲自己去成全国产设备,显然也不太符合市场发展需求,对此你们是怎么看的呢?