在如今的全球光刻机领域，ASML还是毫无对手的光刻机巨头，仅一家就占据了全球80%左右的市场份额，并且还独家垄断了EUV光刻机，又研发出新一代NA EUV。
近日，ASML又表示将会把芯片制程推进到1nm，使摩尔定律延长十年甚至更长。可见，ASML还在继续前进。但EUV限制问题却至今还未改变，我们该怎么办？
大家都知道，中芯国际2018年就向ASML订购了一台EUV光刻机，本应于2019年底交货，可因为美方多次阻挠至今未到货，后来连外企在大陆的晶圆厂也不行了。
去年，韩企SK海力士想往他们在无锡工厂引进一台EUV，也受到了美方的阻挠。
可见，对于EUV光刻机的限制依然很严。按照他们的要求，想要我们半导体水平至今落后他们两代以上。ASML刚推出的下一代EUV还要两年量产，再一代还早呢。
因此，寄希望于ASML出货EUV光刻机可能性不大，即使能估计也要10年以后了。
这样的话，我们还要等待吗？当然不会，中科院早就在EUV上开始布局了。在芯片禁令实施的第二天，中科院院长白春礼就再次表态，将会突破光刻机等卡脖子技术。
大家不要以为，我们是近两年才开始研发EUV。其实，我们早就开始，并拥有了一些EUV方面的专利。并且近日中科院又官宣新消息，开始招聘EUV技术方面的人才。
我们之所以在科技方面发展非常困难，就是因为外企发展得较早，提前申请了很多专利，形成了一定的技术壁垒。光刻机方面更不例外，ASML也曾在专利方面遇到问题。
2007年ASML与佳能进行了专利交叉授权，2019年向尼康支付了1.5亿欧元专利和解费用。同时，在我国还建立了研发中心，还申请了超过3000多项光刻机专利。
在EUV技术上，ASML更加注重在专利方面的深耕，也申请了很多项EUV专利。
我们要做出EUV光刻机，自然就得研发EUV相关技术，获得人家授权可能性不大。那我们只有想法突破技术封锁，也在EUV技术方面申请专利，中科院就在为此努力。
早在2002年，中科院就申请了一项EUV专利，可见中科院早就开始研发EUV技术。
当然不止一项，目前中科院的EUV专利已达上百项。并且中科院旗下的长春光机所、上海光机所等多个下发单位都在负责不同的EUV技术攻坚任务，还不断有突破。
就在今年3月份，中科院的上海光机所就申请了一项新的EUV专利。可以说，中科院在EUV研究上也进行了20年左右，为实现国产EUV光刻机建立了专利护城河。
EUV技术研究的时间不短了，就要从理论向实践推进，这就需要更多的相关技术人才。
为此，中科院正式对外发布了一则招聘信息。值得一提的是，这次招聘的人才主要是EUV技术方面的，并且主要还是EUV光源、控制、设备等实际操作方面的人才。
中科院可是我国最高的技术研发机构，可以说各方面技术人才都不少。而这次大规模地招聘EUV技术方面的人才，可见要在EUV研究上要进行深耕，布局下一阶段了。
这充分说明，我们在突破EUV光刻机并不是空穴来风，而是已经进入到重要阶段。
对于EUV技术的研究，我们也应该都有体会。之前长春光机所就突破了光源方面的技术，最近上海光机所又突破了光刻机方面的好几项技术，可见技术突破越来越多。
对于这个局面的出现，ASML是最不想看到的，应该也是最明白了。怪不得，之前ASML总裁连说话的语气都变了，从我们不可能做出，到我们会尝试，不是完全不可能。
ASML总裁还说不出15年我们会突破所有，现在情况看，根本用不了那么长时间！
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