科技的发展日新月异，科技的车轮滚滚向前，如今，推动科技前进再也不是蒸汽，不是电气，而是智能，而是芯片。芯片如今在国际舞台上的作用越来越大，日益突出。目前，不要说我国，就算放眼全球，在芯片这个高端领域中，研发不再是拦路虎，生产设备才是真正的高峰。
而在芯片生产设备领域中，目前也仅仅只有阿斯麦尔一家独秀。如今正值全球缺芯，恐怕阿斯麦尔自己都没有想到，在这样的时代红利之下，还能有接二连三的坏消息。那么，在这些坏消息的冲击下，阿斯麦尔还能扛得住吗？
无论阿斯麦尔究竟能否扛得住，可以知道的一点是，这些坏消息对阿斯麦尔带来的负面影响也是不小的，特别是对阿斯麦尔的产能。那么，随着阿斯麦尔新一代光刻机未来的落地，是否能减轻这些负面影响呢？
阿斯麦尔如今可以说是流年不利，1月3日，阿斯麦尔德国柏林工厂发生了火灾，虽然大火在当晚就被扑灭，虽然计量和检测产品的出货不会受到影响，但是，阿斯麦尔这座着火的柏林工厂里面，可是生产着EUV和DUV光刻机部分零部件。
据说当时迅速恢复了DUV光刻机的正常生产，至于EUV，由于这座柏林工厂生产的是EUV光刻机三大核心零部件之一的光源系统，所以EUV的产能没有恢复正常。
根据路透社报道，2月23日，阿斯麦尔对外公开表示，尽管乌克兰是全球最大的氖气生产国，尽管阿斯麦尔光刻机生产中仅仅只有不到20%的氖气来自乌克兰。但是，为了尽可能减少供应链中断带来的负面影响，正在积极寻找乌克兰氖气供应一旦中断后的替代。目前还没有任何消息。
3月22日，阿斯麦尔CEO温彼得表示，因为德国蔡司的徕卡镜片供应跟不上阿斯麦尔EUV光刻机的需求。而徕卡镜片可是光刻机生产中至关重要的一个零件。虽说如今阿斯麦尔正在努力加大对生产徕卡镜片无尘室的建设，但是，据说要满足需求，所需要的无尘室至少要十二个月的时间。
总之，阿斯麦尔如今的坏消息可以说是接二连三，每一项坏消息都精准击中阿斯麦尔最重要的EUV光刻机产能。那么，在阿斯麦尔EUV光刻机出现不可避免下滑的同时，阿斯麦尔是否还能顶得住呢？
首先，目前光刻机在芯片生产中还有很大的市场
个人觉得，阿斯麦尔其实还是应该可以顶得住的，毕竟目前，全球对于芯片的需求依旧强劲，今年2月8日，欧盟委员会发布了《欧洲芯片法案》，准备通过增加投资，加强研发，提高欧洲芯片产能在全球消费市场份额中的占比。
另外，经过了数个月的讨论，终于在3月28日，美国参议院通过了520亿美元的芯片激励法案，这是美国驴和美国象达成的一次难得的共识。无论如何，美国和欧洲，全球最重要的其中两股力量，最庞大的两处市场，如今都在这样紧锣密鼓地进行芯片的生产。
这样一来，无疑会带来庞大的芯片生产需求。当下，芯片的生产依旧离不开光刻机，这就未必不能给光刻机垄断巨头阿斯麦尔带来庞大的消费市场。如今，阿斯麦尔的光刻机产能是下降了，但是在消费市场并没有受到太大冲击的当下，阿斯麦尔想要扛住其实也不是不可能。
其次，阿斯麦尔有全球庞大供应链以及大招聘
阿斯麦尔能够扛得住的另外一个因素就是。众所周知，阿斯麦尔其实就是一个比较高级的组装厂，从阿斯麦尔那边出货的光刻机，基本上都是全球货，这就从侧面证明了阿斯麦尔本身有着非常庞大的全球供应链，产能方面应该是能保证的，又怎么会扛不住呢？
再一个，根据彭博社1月19日的消息，阿斯麦尔计划在今年招聘数千名员工，目前阿斯麦尔的全球员工总数有31500人，阿斯麦尔计划在年底之前将员工总数增加到35000人。随着阿斯麦尔全球大招聘的逐渐展开，未必就不能用人数优势弥补产能不足，未必就扛不住如今这三个坏消息的轮番冲击。
最后，阿斯麦尔去年经济营收上涨
要想渡过这三个坏消息，其实最重要的就是钱，就是资金，只要有充足的资金，相信阿斯阿米尔一定会早日走上正轨的，那么，阿斯麦尔有足够的资金吗？其实也有，1月19日，阿斯麦尔公开了自己去年的财报。
根据阿斯麦尔的财报可知，阿斯麦尔在去年的总营收为186.11亿欧元，远远高于2020年的139.79亿欧元；在利润方面，去年阿斯麦尔获得了98.09亿欧元，同样也高于2020年的67.98亿欧元。在阿斯麦尔营收利润双增长的情况下，阿斯麦尔有这样深厚的资金基础，未必就扛不住这三个坏消息的冲击。
虽然阿斯麦尔能扛得住，但是并不代表对阿斯麦尔自身就不会有冲击。去年12月份，阿斯麦尔公开表示，新一代，Na值为0.55的更加先进的新型EUV光刻机有望在2023年实现量产。
那么，随着阿斯麦尔这台全新的EUV光刻机落地，未来是否有希望能减轻这三个坏消息对阿斯麦尔的负面影响呢？
首先，芯片先进封装工艺的发展
其实，恐怕很难，今年3月2日，英特尔、台积电、高通等等全球十大知名企业成立了UCle联盟，也就是小芯片联盟，确立统一的Chiplet互联标准，发展先进封装。另外，在同一天，英国AI芯片创企Graphcore推出了一款IPU产品Bow，这枚IPU芯片采用的是台积电的3D封装工艺，在完全不改变软件和芯片内核的情况下，不仅将运算速度提升了40%，更是降低了16%的功耗。
从这些新闻中，我们不难看出，如今全球在先进封装工艺方面取得了不少的突破和成绩，在未来，EUV光刻机的舞台无疑会越来越小，如此，纵然是新一代EUV光刻机，恐怕也很难减轻阿斯麦尔如今的负面影响。
其次，我国EUV核心技术取得突破
在EUV光刻机领域，阿斯麦尔的竞争压力也是越来越大，就拿我国来说吧，就在去年6月28日当天，我国除了提供技术研发和测试支撑能力的先进光源技术研发和测试平台正式转入试运行。
而且还在6月28日当天上午，我国中科科仪控股有限公司研发的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置正式投入使用。这些都是EUV光刻机的核心技术，我国取得这样的突破，未来未必就不能实现EUV光刻机的国产化，在阿斯麦尔EUV光刻机领域有这样强劲竞争对手的当下，阿斯麦尔想要通过新一代EUV光刻机洗清自己身上的负面灰尘，恐怕还真没有这么容易。
坏消息接二连三，阿斯麦尔屡遭冲击，就目前而言，阿斯麦尔想要扛住冲击，问题不大，但是，在未来的日子里，要是阿斯麦尔不尽快解决这些坏消息，不尽快走出坏消息的泥潭，恐怕未来，阿斯麦尔的发展之路会不怎么好走。
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