光刻机的重要性不言而喻，没有光刻机就造不了芯片，设计好的芯片电路图就无法曝光在晶圆上。国产光刻机历经几十年的发展，也有深厚的积累。
为了实现更大的进步，中国研究人员一直在努力。终于，国内领先的光学系统机构长春光机所取得突破，攻克了光刻机光键技术。被ASML说对了？在这之后，光刻机市场将迎来怎样的变局呢？
光刻机市场一直被国外把持着，尤其是在高端EUV光刻机领域，全世界也只有荷兰ASML这一家企业能造出EUV光刻机。所以ASML自然而然垄断了EUV光刻机全部的市场份额。
但半导体行业覆盖广泛，并不一定都需要EUV光刻机来生产芯片。换句话说，在中低端范畴的领域，用成熟工艺制程的光刻机产品就能完成行业发展。在这方面，国产光刻机其实是有能力参与的，ASML未必能做到一家独大。
在国产企业，科研机构不懈的努力下，光于国产光刻机又一次取得了技术突破。根据报道，长春光机所传来好消息，完成了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术的突破。
对于这项技术的突破，了解的人或许会知道，物镜系统是光刻机的核心四大件之一，其余的还包括光源系统、控制软件、双工件台。
相对应的是，光源系统有北京科益虹源在参与布局，北京华卓精科也是业内领先的双工件台厂商，占据中国光刻机双工件台最主要的市场份额。
现如今再加上长春光机所完成物镜系统领域的技术突破，可以说光刻机的四大件都在部署科研力量。等完成一系列的技术攻克，实现光刻机其余大大小小的零部件制造生产，相信国产光刻机的自主化程度会大大提升。
光刻机集合了人类顶尖的科技成果，每一项技术的突破都是经过长时间的磨砺。有时候工程师为了调整某项数据，需要花费十年来进行测试验算。
如果把各国所有研发光刻机的时间加在一起，可能会长达一个世纪。只有靠各国的分工合作，才能完成协调统一，把各种顶尖的技术融合应用于一台设备上。
但中国正在尝试进行各种自主光刻机的研发，比如清华大学研究了一项可用于EUV光刻机的新型粒子加速器光源“稳态微聚束”。
中科院也宣布要入局光刻机，时隔近一年，中科院就完成了相关进展，中科院所属的中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称长春光机所）实现此次在“光学投影物镜”的光刻机核心零件破冰。
这些突破和进展都是有目共睹的，难道被ASML说对了？荷兰光刻机厂商ASML首席执行官感到担忧，认为如果不把光刻机卖给中国，3年后中国就会掌握这个技术。另外ASML还表示，15年的时间里，中国可以做出所有东西。
按照ASML所言，一旦中国完成了这些，那么就有可能实现替代。当然，不排除ASML有夸大的成分，想通过这种方式引起某些国家的注意，让他们认识到开放市场合作的重要性。要是进行出货限制，很可能会造成中国的自给自足。
ASML看重中国市场的潜力，希望加快在中国市场的布局，提高产品出货量。当然，出货的产品并不包括最高端的EUV光刻机，而DUV及以下的光刻机设备则不受限制。
或许ASML了解中国在加速半导体行业的发展，未来也会尝试加大自主光刻机的出货量，给其带来市场压力，这才希望加快中国市场的布局。随着国产光刻机的不断破冰，和ASML的加快布局，光刻机市场将迎来怎样的变局呢？这得分为高端和中低端两个方面来分析。
高端方面，ASML靠着EUV光刻机制造能力，垄断了这一市场。ASML已经出货了一百多台EUV光刻机，主要客户包括台积电，三星，接下来还会向英特尔、SK海力士、美光等芯片制造巨头加大EUV光刻机出货量。预计未来几年内，会形成更大规模的高端半导体产业。
中低端方面，日本尼康，佳能以及中国的上海微电子都有能力参与其中。国产光刻机的技术突破，最终会给上海微电子这家光刻机厂商提供帮助。根据上海微电子官方表示，推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机，这台光刻机可用于高密度异构集成领域。
有了这些厂商的参与，中低端光刻机市场巨头们割据一方，会给庞大的产业链带来更大的突破，满足更多的需求。而ASML公司在这块市场上，想要一家独大几乎不可能。
国产光刻机的一系列突破，似乎都朝着ASML所说的方向前行。类似ASML的发言还有不少，微软创始人比尔盖茨说过，如果不卖芯片给中国，会迫使他们自己造芯片，最终实现自给自足。
未来如何还需要观察，但可以知道的是，国内科研人员一定会持续取得破冰。
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